受AI芯片需求公海彩船影响 台积电加快High

本年9月，芯响台台积电（TSMC）从ASML手上接收了其首台High-NA EUV光刻机，片需移送至自己的求影公海彩船全球研制中心进行研究，以满意A14等未来先进工艺的积电加快开发需求。风闻台积电董事长兼首席执行官魏哲家亲身与ASML商洽并达成了一项协议，芯响台经过购买新设备和出售旧类型相结合的片需办法，将全体价格降低了近20%。求影

据报道，积电加快近期台积电3nm产能需求旺盛，芯响台很多客户下单使得产能处于满载状况，片需一起行将到来的求影公海彩船2nm工艺也受到了客户的欢迎，台积电正在考虑持续扩展2nm产能，积电加快满意以AI芯片为首的芯响台增加需求。跟着客户进一步推进人工智能事务开展，片需在市场需求影响下，求影台积电也加速了High-NA EUV光刻机的布置，以便更早地了解新技能。

依据台积电的路线图，High-NA EUV光刻机将集成到A14 工艺，估计2027年进入量产阶段。在此之前，需求进行广泛的测验、微谐和流程优化，用于1nm阶段的制程工艺中。跟着半导体制作工艺日益杂乱，本钱也跟着每个制程节点的开发推从而上涨，每台High-NA EUV光刻机的价格高达3.84亿美元。尽管如此，台积电在技能上的抢先有望招引更多寻觅先进芯片制作才能的高端客户。

有分析师表明，加速High-NA EUV技能的开发可能会扩展台积电与竞争对手之间的距离，尤其是三星。台积电在2019年推出了N7+工艺，初次使用了EUV光刻机，其时大概有10台。台积电接下来敏捷扩展了EUV光刻技能的使用，也购买了更多的设备，EUV光刻机的销量从2019年至2023年增加了10倍，而台积电占有了其间56%的装机量。

台积电在将新技能集成到大批量出产之前，会依据新技能的成熟度、本钱和潜在客户利益进行细心评价。这是一种系统化，并以客户为中心的办法，到了High-NA EUV年代也会如此。